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天一萃取

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應用案例DESIGN

中試實驗室萃取槽從鋁酸鈉溶液中提取鉻行業正式運行

中試實驗室萃取槽從鋁酸鈉溶液中提取鉻行業正式運行,該企業試用實驗萃取槽提取鉻時,電鍍液中會逐漸積累一些雜質,如Fe(Ⅲ)、Cr(Ⅲ)、Ni、Cu及Zn等,使得電鍍液在使用一段時間后就不能再用于鍍鉻。鍍鉻后的鍍件清洗液中也含有Cr(Ⅵ)及以上雜質。試用CWL50-M型離心萃取機溶劑萃取法用于回收這些溶液中的鉻可有兩種方式。即萃取鉻使鉻與酸、雜質金屬分離;或萃取除去雜質金屬以使鍍鉻液再生。

中試實驗萃取槽從廢酸水中回收鉻(Ⅵ)可使用TBP或胺類萃取劑。由此開發出的過程可獲得99.5%的鉻回收率。萃取的鉻酸既可用苛性蘇打或pH為4的水反萃,也可用鉻酸鈉溶液反萃。反萃液中Cr(Ⅵ)的濃度可達200kg/m3,而Cr(Ⅲ)少于20g/m3。

中試實驗萃取槽從鉻電鍍液中萃取雜質采用HDNNS(二壬基萘磺酸)與TBP混合溶劑。萃取效率受到電鍍液酸度的限制。用水稀釋電鍍液可使操作得到很大改善,水的平衡通過在電鍍期間的自然蒸發可得到部分保持。共萃的少量鉻酸可用水洗去,洗水用作電鍍液在萃取前的稀釋。反萃采用5mol/m3 H2SO4或HCL,得到的反萃液中金屬濃度超過60kg/m3。下圖示出其工業流程。

 

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